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无机氧化铝膜

产品简介:无机氧化铝膜是一种常见的功能性涂层材料,它的耐高温性、耐腐蚀性、绝缘性能以及硬度和耐磨性等特点,使其在光学、电子、化工以及保护和导热等领域有着广泛的应用

  • 更新时间:2023-08-29
  • 浏览次数:309

详细介绍

无机氧化铝膜是一种常见的功能性涂层材料,它的耐高温性、耐腐蚀性、绝缘性能以及硬度和耐磨性等特点,使其在光学、电子、化工以及保护和导热等领域有着广泛的应用。

耐高温性能:具有良好的耐高温性能,能够在高温环境下保持稳定性,并且不易发生氧化或熔化。

耐腐蚀性能:对许多化学物质和腐蚀介质具有较高的抗腐蚀性能,可以保护基材免受腐蚀的侵害。

优异的绝缘性能:具有良好的绝缘性能,能够阻隔电流和导热,适用于电子器件和绝缘材料的应用。

高硬度和耐磨性:具有较高的硬度和耐磨性,可以提高基材表面的抗刮擦和耐磨损性能。

透明性能:在某些情况下可以具备透明性,可以用于光学涂层和透明材料的应用。

2.应用领域

光学涂层:在光学设备和器件中具有重要的应用,可以用于反射镜、滤光片、抗反射涂层等。

电子领域:可用作绝缘层、保护层或导电层的组成部分,用于电子元件、电路板和显示器等。

耐腐蚀涂层:由于其优异的抗腐蚀性能,无机氧化铝膜常用于化工装备、管道、储罐等表面的保护涂层。

导热涂层:可用于导热材料的涂层,提高散热效果,广泛应用于电子散热器、LED照明等领域。

防粘涂层:可以应用于食品加工设备、模具涂层等,减少黏附物的沾附,提高清洁度和耐用性。

3.制备技术

物理气相沉积(PVD):采用物理气相沉积方法,通过蒸镀或溅射的方式在基材表面生成无机氧化铝膜。

化学气相沉积(CVD):利用化学反应生成无机氧化铝膜,常见的方法包括热CVD和等离子体CVD等。

溶胶凝胶法:通过溶胶的形式将无机氧化铝前驱体涂覆在基材上,经过凝胶化和热处理形成氧化铝膜。

参数信息:

技术参数

 

Anodisc 13

Anodisc 25

Anodisc 47

平均膜厚度

60µm

60µm

60µm

膜直径

13mm

21mm

43mm

膜类型

Anodisc氧化铝

氧化铝

氧化铝

支撑环材烊

聚丙烯

聚丙烯

构建方式

热合

热合

蛋白吸附

爆裂强度

65-110psi

65-110psi

65-110psi

zui高工作温度

400℃

40℃

40℃

孔率

25-50%

25-50%

25-50%

高压蒸汽灭菌

折射率

1.6

1.6

1.6

订货信息

尺寸(mm)

孔径(µm)

目录号

亲水

蛋白

吸附力

化学

相容性

数量/包

13

Anodisc 13*

0.02

6809-7003

很低

100

13

Anodisc 13*

0.1

6809-7013

很低

100

13

Anodisc 13*

0.2

6809-7023

很低

100

25

Anodisc 25

0.02

6809-6002

很低

50

25

Anodisc 25

0.1

6809-6012

很低

50

25

Anodisc 25

0.2

6809-6022

很低

50

47

Anodisc 47

0.02

6809-5002

很低

50

47

Anodisc 47

0.1

6809-5012

很低

50

47

Anodisc 47

0.2

6089-5022

很低

50

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